北京德仪天力科技发展有限公司
北京德仪天力科技发展有限公司专业提供PVD-磁控溅射设备、电子束蒸发薄膜沉积设备、热蒸发薄膜沉积设备及相关产品的技术服务。
设备主要用于大学院校、科研院所和生产企业的科学研究与量产，其在半导体、微电子、纳米技术、量子科学、数据存储、超导电子、光电及生物薄膜材料制备等研究和生产中发挥着核心作用。
高级配置
高档指标
高超性能
高度稳定
高质薄膜
高端服务
DE3000 Cluster包含多个工艺腔室，可沉积金属、半导体、介质材料。可选磁控溅射，电子束蒸发、热阻蒸发，离子束清洗或辅助沉积等工艺。可沉积单层膜，多层膜，或合金膜，可用于纳米薄膜材料研发和批量生产。适于FAB百级净化间、无人车间。
DE4500磁控溅射和蒸发薄膜沉积系统包括溅射腔体、电子束和热蒸发腔体以及样品室，可用于溅射或蒸发金属、半导体、介质和低温有机材料，用于制备单层或多层薄膜材料，是大专院校和科研院所从事材料和薄膜研究的理想平台
DE500DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。
DE500DL超导量子磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、LIFT-OFF工艺薄膜、隧道结薄膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。
DE400DHL电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源，可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料，是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。
DE400DUL超高真空电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源，可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料，是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。
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