特点

溅射镀膜腔体胶圈密封前开门便于内部操作 

溅射距离可调

PID下游和上游压力控制 

良好的薄膜均匀性和重复性

 安全互锁保护

可选离子束清洗或辅助沉积

可选RF等离子体清洗、可选楔形膜

PLC和工控全自动控制

镀膜腔室

腔体为304不锈钢，并有观察窗

真空泵

分子泵(或冷凝泵）和干泵

真空阀门

高真空插板阀门
腔体充气阀门，粗抽和前级角阀，气体截止阀

真空测量

宽量程真空计和皮拉尼粗抽计

溅射源

多达6个溅射源
直流、脉冲直流、射频电源、HIPPIMS电源

样品台

样品台旋转加热或冷却

气体和压力控制

多路气体配流量计
PID控制压力控制

预真空样品室

单基片或多基片装载能力

全自动送样

镀膜腔室极限真空度

优于3E-8Torr（或9E-9Torr）

基片尺寸

可选：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸

样品加热器最高温度

600℃ (可选900℃)

膜厚均匀性

优于+/-3%