DE500DL 超导量子磁控溅射系统
DE500DL超导量子磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、LIFT-OFF工艺薄膜、隧道结薄膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。
| 特点 |
|
主要配置
| 镀膜腔室 | 腔体为304不锈钢，并有观察窗 |
| 真空泵 | 分子泵(或冷凝泵）和干泵 |
| 真空阀门 | 高真空插板阀门 腔体充气阀门，粗抽或前级阀门，气体控制阀 |
| 真空测量 | 宽量程真空计和皮拉尼粗抽计 |
溅射源 | 多个溅射源 直流、脉冲直流、射频电源 |
| 样品台 | 样品台旋转加热或冷却 |
| 气体和压力控制 | 多路气体配流量计 PID控制压力控制 |
| 预真空样品室 | 单基片或多基片装载能力 全自动送样 |
主要技术指标
| 镀膜腔室极限真空度 | 优于9E-9Torr |
| 基片尺寸 | 可选：2英寸、4英寸、6英寸 |
| 基片加热和冷却 | 可加热至900℃和冷却至-50℃，基片可自转 可高温制备超导材料薄膜和低温制备超导材料薄膜 |
| 膜厚均匀性 | 优于+/-3% |
相关产品
关于我们
联系方式
地址：北京市经济技术开发区经海三路29号
传真： (+86)10-67814077
微信二维码
