北京德仪天力科技发展有限公司

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北京德仪天力科技发展有限公司专业提供PVD-磁控溅射设备、电子束蒸发薄膜沉积设备、热蒸发薄膜沉积设备及相关产品的技术服务。

 

设备主要用于大学院校、科研院所和生产企业的科学研究与量产,其在半导体、微电子、纳米技术、量子科学、数据存储、超导电子、光电及生物薄膜材料制备等研究和生产中发挥着核心作用。

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高级配置

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高档指标

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高超性能

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高度稳定

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高质薄膜

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高端服务

DE3000 高真空多腔室纳米薄膜沉积系统

DE3000 Cluster包含多个工艺腔室,可沉积金属、半导体、介质材料。可选磁控溅射,电子束蒸发、热阻蒸发,离子束清洗或辅助沉积等工艺。可沉积单层膜,多层膜,或合金膜,可用于纳米薄膜材料研发和批量生产。适于FAB百级净化间、无人车间。

DE500DL纳米膜层磁控溅射系统

DE500DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源,可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。

DE500DL 超导量子磁控溅射系统

DE500DL超导量子磁控溅射系统配备多个磁控溅射源,可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、LIFT-OFF工艺薄膜、隧道结薄膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。

DE400DHL 电子束蒸发镀膜系统

DE400DHL电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源,可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料,是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。

DE400DUL 超高真空电子束蒸发镀膜系统

DE400DUL超高真空电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源,可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料,是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。

DE400BHV 电子束蒸发镀膜系统

DE400BHV电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源,可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料,是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。