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DE500DL 超导量子磁控溅射系统

DE500DL超导量子磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、LIFT-OFF工艺薄膜、隧道结薄膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。

特点
  • 溅射距离可调 
  • PID下游和上游压力控制
  • 良好的薄膜均匀性和重复性
  • 安全互锁保护
  • PLC和工控全自动控制
  • 可选离子束清洗或辅助沉积
  • 可选RF等离子体清洗

 

主要配置

镀膜腔室不锈钢腔体
真空泵分子泵(或冷凝泵）和干泵
真空阀门高真空插板阀门
真空测量宽量程真空计

溅射源

多个溅射源
直流、脉冲直流、射频电源
样品台样品台旋转加热或冷却
气体和压力控制多路气体配流量计
PID控制压力控制
预真空样品室

单基片或多基片装载能力

全自动送样

 

主要技术指标

镀膜腔室极限真空度优于9E-9Torr
基片尺寸可选：2英寸、4英寸、6英寸
基片加热和冷却

可加热至900℃和冷却至-50℃，基片可自转

膜厚均匀性优于+/-3%

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DE500DL纳米膜层磁控溅射系统

DE600DL 纳米膜层磁控溅射系统

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