

DE3000 高真空多腔室纳米薄膜沉积系统
DE3000 包含多个工艺腔室,可沉积金属、半导体、介质材料。可选磁控溅射,电子束蒸发、热阻蒸发,离子束清洗或辅助沉积等工艺。可沉积单层膜,多层膜,或合金膜,可用于纳米薄膜材料研发和批量生产。适于FAB百级净化间、无人车间。
特点 |
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工艺腔室
腔体 | 不锈钢腔体 |
真空泵 | 分子泵(或冷凝泵)和无油干泵 |
真空阀门 | 高真空阀门 |
真空测量 | 宽量程真空计 |
极限真空压力 | <5E-8Torr |
工艺腔室恢复原空真空压力时间 (晶圆从分样室送至工艺室后) | <10分钟 |
工艺 | 磁控溅射 电子束蒸发 热阻蒸发 离子束清洗 离子束辅助沉积 氧化工艺 |
晶圆尺寸 | 可选:6英寸、8、12英寸 |
片内膜厚均匀性 | ≤±3% |
片间膜厚重复性 | ≤±2% |
分样室
真空泵 | 分子泵和干泵 |
真空阀门 | 高真空阀门 |
真空测量 | 宽量程真空计 |
极限真空压力 | <9E-7Torr |
机械手 | 自动传递晶圆 |
预真空室
真空泵 | 分子泵和干泵 |
极限真空压力 | <9E-7Torr |
晶圆装载能力 | 装载多片晶圆 |
EFEM
两个或多个晶圆盒FOUP LOAD PORT |
高速准确校准晶圆,配备机械手, 具有翻片功能,可实现片盒内各层间随机取放 |
可自动将FOUP内晶圆通过机械手传递到预真空室 |
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