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DE3000 高真空多腔室薄膜沉积系统

  • 多个工艺腔室

磁控溅射

电子束蒸发

热阻蒸发

离子束辅助沉积

等离子体清洗

样品除气

氧化工艺   

  • 工艺腔室高真空或超高真空环境
  • LOAD LOCK
  • 样品自动传输
  • 可配备EFEM
  • 全机PLC+PC全自动控制
  • 适于Fab百级净化间、无人车间
  • 用于研发和中试或量产
  • 可沉积金属、半导体、介质材料.
  • 单层膜、多层膜、合金膜
  • 优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性
  • 高精度镀膜速率和膜厚控制

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