DE600DL 纳米膜层磁控溅射系统-北京德仪天力科技发展有限公司_PVD-磁控溅射设备

DE600DL 纳米膜层磁控溅射系统

DE600DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选楔形膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。

特点	溅射距离可调 PID下游和上游压力控制良好的薄膜均匀性和重复性安全互锁保护可选离子束清洗或辅助沉积可选RF等离子体清洗 PLC和工控全自动控制

主要配置

镀膜腔室	不锈钢腔体
真空泵	分子泵(或冷凝泵）和干泵
真空阀门	高真空插板阀门
真空测量	宽量程真空计
溅射源	6个以上溅射源直流、脉冲直流、射频电源、HIPPIMS电源
样品台	样品台旋转加热或冷却
气体和压力控制	多路气体配流量计 PID控制压力控制
预真空样品室	单基片或多基片装载能力全自动送样

主要技术指标