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DE400DL 热阻蒸发薄膜沉积系统

DE400DL 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源，配备送样室，连续旋转的样品台或可倾角自转样品台

 

特点

可选可倾角和自转基片台

样品台可选水冷或加热

可选手套箱

典型应用

用于薄膜沉积研发

LIFT-OFF工艺的理想平台

可蒸发金属，半导体、介质材料或有机材料

 主要配置

真空泵

配备冷凝泵或分子泵和无油机械泵

真空阀门

高真空插板阀

蒸发源

多组热蒸发源

样品台

连续旋转的样品台或可倾角自转样品台

膜厚检测

晶振膜厚监控

真空测量

宽量程真空计

预真空样品室

单基片或多基片装载能力

全自动送样

 主要技术指标

极限真空度

优于5E-8Torr

基片尺寸

可选：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸

膜厚均匀性

优于+/-3%

蒸发速率分辨率

0.01 A/s

膜厚分辨率

0.1 A

 

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