+

DE500CL 双电子枪共蒸镀膜系统

  • 双电子枪
  • 高真空或超高真空镀膜环境
  • 样品可高温加热
  • 样品可低温冷却
  • 优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性
  • 高精度镀膜速率和膜厚控制
  • 可选LOAD LOCK，全自动送样
  • 可选离子束清洗或辅助沉积
  • 可选RF等离子体清洗
  • PLC+PC全自动控制
  • 可沉积金属、半导体、介质材料.
  • 可用于沉积单层、多层膜
  • 可共蒸合金膜
  • LIFT-OFF工艺蒸镀
  • 低维材料制备
  • 多种样品台或客制样品台制备特殊工艺薄膜
  • 用于研发和中试或量产

上一个

DE400P 中试-量产 电子束蒸镀机

DE600CL 多电子枪蒸发镀膜系统

下一个

相关产品