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DE400 热阻蒸发薄膜沉积系统

DE400 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源，连续旋转的样品台或可倾角自转样品台。

特点

可选可倾角和自转基片台

样品台可选水冷或加热

可选手套箱

典型应用

用于薄膜沉积研发

LIFT-OFF工艺的理想平台

可蒸发金属，半导体、介质材料或有机材料

 

主要配置

真空泵配备冷凝泵或分子泵和无油机械泵
真空阀门高真空插板阀
蒸发源多组热蒸发源
样品台连续旋转的样品台或可倾角自转样品台
膜厚检测晶振膜厚监控
真空测量宽量程真空计

 

主要技术指标

极限真空度优于5E-7Torr
基片尺寸可选：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
膜厚均匀性优于+/-3%
蒸发速率分辨率0.01 A/s
膜厚分辨率0.1 A

 

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DE400DL 热阻蒸发薄膜沉积系统

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