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DE400DL 热阻蒸发薄膜沉积系统

  • 高真空或超高真空蒸镀环境
  • 优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性
  • 高精度镀膜速率和膜厚控制
  • 可选离子束清洗或辅助沉积
  • LOAD LOCK自动样品传输
  • PLC+PC全自动控制
  • 可沉积金属、半导体、介质材料、有机材料
  • 可用于沉积单层、多层薄膜
  • 可安排共蒸合金膜
  • LIFT-OFF工艺蒸镀
  • 多种样品台或客制样品台制备特殊工艺薄膜
  • 可配手套箱
  • 用于研发和中试

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