DE3000-FAB 纳米膜层沉积系统

薄膜沉积腔室具有高真空环境，可获得高质量的纳米薄膜。可用于金属材料、半导体材料和氧化物材料的多层膜或合金膜沉积等

整机由EFEM系统、LOAD LOCK预真空样品室、真空自动分样室、高真空薄膜沉腔室组成。

薄膜沉积腔室具有高真空环境，可获得高质量的纳米薄膜。可用于金属材料、半导体材料和氧化物材料的多层膜或合金膜沉积等。

设备主要用于FAB半导体行业高精度纳米薄膜制备。

特点	多腔室纳米膜层沉积可选离子源预清洗晶圆或辅助沉积可选4、6、8、12寸晶圆中央机械手晶圆自动传送室 LOAD LOCK 自动开门 EFEM 晶圆自动传输全自动晶圆传输和镀膜控制适于FAB百级净化间、无人车间