DE400DL 热阻蒸发薄膜沉积系统
DE400DL 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源，配备送样室，连续旋转的样品台或可倾角自转样品台
| 特点 |
腔体前开门便于腔体内部操作和维护 独立的系统机架和电器柜 薄膜沉积工艺可以通过准确的温度控制，也可通过膜厚仪准确控制速率 样品台可选水冷或加热 |
| 典型应用 |
用于薄膜沉积研发 LIFT-OFF工艺的理想平台 若采用侧装样品台可用成为GLAD工艺的理想平台 可蒸发金属，半导体或介质材料（视具体材料而定） |
主要配置
| 真空泵 | 配备冷凝泵或分子泵和无油机械泵 |
| 真空阀门 | 气动控制高真空插板阀 |
| 蒸发源 | 多组热蒸发源 |
| 样品室 | 蒸发腔体为304不锈钢，并有观察窗 |
| 样品台 | 连续旋转的样品台或可倾角自转样品台 |
| 膜厚检测 | 晶振膜厚监控 |
| 真空测量 | 宽量程真空计用于测量真空和粗抽计 |
主要技术指标
| 极限真空度 | 优于5E-8Torr |
| 装样能力 | 一个最大8英寸的平板基片或多个小基片 |
| 蒸发速率分辨率 | 0.01 A/s |
| 膜厚分辨率 | 0.1 A |
产品描述
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