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DE400 热阻蒸发薄膜沉积系统
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DE400热蒸发薄膜沉积系统002
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DE400热蒸发薄膜沉积系统002

DE400 热阻蒸发薄膜沉积系统

DE400 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源,连续旋转的样品台或可倾角自转样品台

DE400 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源,连续旋转的样品台或可倾角自转样品台。

 

特点

腔体前开门便于腔体内部操作和维护

独立的系统机架和电器柜

薄膜沉积工艺可以通过准确的温度控制,也可通过膜厚仪准确控制速率

可选可倾角和自转基片台

样品台可选水冷或加热

可选手套箱

典型应用

用于薄膜沉积研发

LIFT-OFF工艺的理想平台

可蒸发金属,半导体、介质材料或有机材料

 

主要配置

真空泵 配备冷凝泵或分子泵和无油机械泵
真空阀门 气动控制高真空插板阀
蒸发源 多组热蒸发源
样品台 连续旋转的样品台或可倾角自转样品台
膜厚检测 晶振膜厚监控
真空测量 宽量程真空计用于测量真空和粗抽计

 

主要技术指标

极限真空度 优于5E-7Torr
基片尺寸 可选:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
膜厚均匀性 优于+/-3%
蒸发速率分辨率 0.01 A/s
膜厚分辨率 0.1 A

 

产品描述

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