DE600P 电子束蒸发镀膜系统
DE600P 电子束蒸发镀膜系统配置三（四或六）个电子束蒸发源，可在基片共蒸发沉积金属、半导体或介质材料
| 特点 |
蒸发腔体胶圈密封前开门便于腔体内部操作 基片挡板开启由膜厚仪闭环控制 系统安全互锁 计算机控制全自动或手动操作 |
| 典型应用 |
用于薄膜沉积研发 LIFT-OFF工艺的理想平台 可蒸发金属、半导体或介质材料 可蒸发磁性材料 可多源共蒸发 |
主要配置
| 蒸发腔体 | 304不锈钢，前开门并有观察窗 |
| 真空泵 | 蒸发室配备分子泵或冷凝泵和无油机械泵 |
| 真空阀门 | 气动控制高真空阀门 |
| 真空测量 | 宽量程真空计用于测量真空和粗抽计 |
| 蒸发源 | 三（四或六）个电子束蒸发源 |
| 样品台 |
公转/自转基片台 (可选加热至300度) |
| 膜厚检测 | 晶振速率膜厚监控 |
主要技术指标
| 极限真空度 | 5E-8Torr |
| 装样能力 | 多片4寸，6寸，8寸，12寸基片 |
| 膜厚均匀性 | 在4英寸基片上为+/-2% |
| 蒸发速率分辨率 | 0.01 A/s |
| 膜厚分辨率 | 0.1 A |
产品描述
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