DE400P 电子束蒸发镀膜系统
DE400P电子束蒸发镀膜系统配备电子束蒸发源或热阻蒸发源，用于沉积金属或介质薄膜及lift-off工艺薄膜沉积
| 特点 |
薄膜沉积腔体前开门，便于内部操作和维护 挡板和蒸发电源的输出由膜厚仪闭环控制 可选离子源用于晶圆预清洗或辅助沉积 系统实现全自动控制 适于100级超净环境 |
| 典型应用 |
用于批量生产 LIFT-OFF工艺的理想平台 可蒸发金属，半导体或介质材料 可蒸发磁性材料 |
主要配置
| 蒸发腔体 | 304不锈钢，前开门并有观察窗 |
| 真空泵 | 蒸发室配备分子泵或冷凝泵和无油机械泵 |
| 真空阀门 | 气动控制高真空阀门 |
| 真空测量 | 宽量程真空计用于测量真空和粗抽计 |
| 蒸发源 | 多坩埚电子束蒸发源自动导位 |
| 基片架 |
公转/自转基片台 (可选加热至300度) |
| 膜厚检测 | 晶振速率膜厚监控 |
主要技术指标
| 极限真空度 | 5E-8Torr |
| 装样能力 | 多片4寸，6寸，8寸，12寸基片 |
| 膜厚均匀性 | 在4英寸基片上为+/-2% |
| 蒸发速率分辨率 | 0.01 A/s |
| 膜厚分辨率 | 0.1A |
产品描述
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DE500P 电子束蒸发镀膜系统
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