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真空镀膜机原理和各部件分析

发布时间 : 2020-12-11 15:08:28

真空镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的真空设备，一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成，排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。本公司专业从事真空镀膜设备的研发与生产拥有经验丰富的技术团队及优质的售后服务队伍为您解决设备在使用过程中遇到的任何问题。下面，详细介绍真空镀膜机的各部分组成及其工作原理。

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真空镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的真空设备，一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成，排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。本公司专业从事真空镀膜设备的研发与生产拥有经验丰富的技术团队及优质的售后服务队伍为您解决设备在使用过程中遇到的任何问题。下面，详细介绍真空镀膜机的各部分组成及其工作原理。

磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法

发布时间 : 2020-12-11 15:07:33

磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法

磁控溅射镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一，磁控溅射镀膜技术正广泛应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜，在国防和国民经济生产中的作用和地位日益强大。镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性，沉积速率，靶材利用率等方面的问题是实际生产中十分关注的。解决这些实际问题的方法是对涉及溅射沉积过程的全部因素进行整体的优化设计，建立一个溅射镀膜的综合设计系统。薄膜厚度均匀性是检验溅射沉积过程的最重要参数之一，因此对膜厚均匀性综合设计的研究具有重要的理论和应用价值。

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磁控溅射镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一，磁控溅射镀膜技术正广泛应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜，在国防和国民经济生产中的作用和地位日益强大。镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性，沉积速率，靶材利用率等方面的问题是实际生产中十分关注的。解决这些实际问题的方法是对涉及溅射沉积过程的全部因素进行整体的优化设计，建立一个溅射镀膜的综合设计系统。薄膜厚度均匀性是检验溅射沉积过程的最重要参数之一，因此对膜厚均匀性综合设计的研究具有重要的理论和应用价值。

真空镀膜的作用

发布时间 : 2020-03-05 13:40:31

真空镀膜的作用

真空镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行真空镀膜。镜头的真空镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层真空镀膜则可对多种色光起作用。

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真空镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行真空镀膜。镜头的真空镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层真空镀膜则可对多种色光起作用。

磁控溅射镀膜技术新进展及发展趋势预测

发布时间 : 2020-03-05 13:40:14

磁控溅射镀膜技术新进展及发展趋势预测

辉光等离子体溅射的基本过程是负极的靶材在位于其上的辉光等离子体中的载能离子作用下,靶材原子从靶材溅射出来,然后在衬底上凝聚形成薄膜;在此过程中靶材表面同时发射二次电子,这些电子在保持等离子体稳定存在方面具有关键作用。溅射技术的出现和应用已经经历了许多阶段,起初,只是简单的二极、三极放电溅射沉积;经过30多年的发展,磁控溅射技术已经发展成为制备超硬、耐磨、低摩擦系数、耐蚀、装饰以及光学、电学等功能性薄膜的一种不可替代的方法。

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辉光等离子体溅射的基本过程是负极的靶材在位于其上的辉光等离子体中的载能离子作用下,靶材原子从靶材溅射出来,然后在衬底上凝聚形成薄膜;在此过程中靶材表面同时发射二次电子,这些电子在保持等离子体稳定存在方面具有关键作用。溅射技术的出现和应用已经经历了许多阶段,起初,只是简单的二极、三极放电溅射沉积;经过30多年的发展,磁控溅射技术已经发展成为制备超硬、耐磨、低摩擦系数、耐蚀、装饰以及光学、电学等功能性薄膜的一种不可替代的方法。